國產(chǎn)芯片業(yè)務(wù)的發(fā)展始終牽動著國人的心弦。在當(dāng)前外部環(huán)境下，國產(chǎn)芯片要實現(xiàn)突破，需要付出更多努力。值得關(guān)注的是，我國從未放棄自研芯片的計劃，相關(guān)報道顯示，自研芯片正逐步邁向量產(chǎn)階段。

　　芯片作為高精度電子元器件，其生產(chǎn)過程對水質(zhì)要求極為嚴(yán)苛，超純水是必不可少的生產(chǎn)原料。傳統(tǒng)超純水生產(chǎn)工藝多采用離子交換樹脂，在運行中需要頻繁進行樹脂再生，不僅耗費人力物力，還存在一定的環(huán)境影響。隨著技術(shù)進步，新的超純水制備工藝逐漸應(yīng)用，該工藝結(jié)合反滲透水處理設(shè)備、電去離子(EDI)設(shè)備和拋光混合床，通過預(yù)處理、反滲透技術(shù)、超純化處理和后處理等流程，能深度去除水中的導(dǎo)電介質(zhì)、膠體物質(zhì)、氣體和有機物，為芯片生產(chǎn)提供高品質(zhì)水源。

　　超純水設(shè)備在芯片生產(chǎn)用水制備中具有顯著優(yōu)勢：

　　傳統(tǒng)混合床樹脂再生需要使用化學(xué)酸堿，而 EDI 技術(shù)避免了有害物質(zhì)的處理，減輕了環(huán)境負(fù)擔(dān)，也簡化了操作流程。

　　混合床工藝中，再生過程和水質(zhì)波動會使操作變得復(fù)雜，EDI 技術(shù)則能實現(xiàn)穩(wěn)定連續(xù)的制水，水質(zhì)恒定，大幅簡化了操作程序。

　　超純水設(shè)備采用模塊化設(shè)計，可根據(jù)場地空間靈活布置，便于生產(chǎn)中的維護和管理。

　　整個處理工藝嚴(yán)格遵循國家環(huán)保政策，確保出水水質(zhì)穩(wěn)定達(dá)標(biāo)，為芯片生產(chǎn)提供可靠的水源保障。

　　我國芯片產(chǎn)業(yè)的崛起，標(biāo)志著自主研發(fā)道路的持續(xù)推進，為產(chǎn)業(yè)全面發(fā)展奠定了基礎(chǔ)。而超純水設(shè)備作為芯片生產(chǎn)的重要支撐，將在提升芯片生產(chǎn)質(zhì)量、保障工藝穩(wěn)定性等方面發(fā)揮關(guān)鍵作用，助力芯片行業(yè)實現(xiàn)更高水平的發(fā)展。