我國的半導體行業(yè)近年來發(fā)展迅速，在政策支持、市場需求和技術(shù)進步等多重因素驅(qū)動下，取得了顯著成果。在半導體設(shè)計、制造、封裝測試等領(lǐng)域，我國研發(fā)人員均取得了不同程度的技術(shù)積累和突破，特別是在芯片設(shè)計方面，已有一批自主研發(fā)的產(chǎn)品初步具備了國際競爭力，在市場中深受重視。盡管如此，我國半導體行業(yè)在某些關(guān)鍵領(lǐng)域與國際先進水平仍有一定差距，尤其是高端芯片制造設(shè)備和工藝、部分核心原材料等方面。

　　在芯片制造和生產(chǎn)中，經(jīng)常會使用到超純水設(shè)備來為芯片生產(chǎn)提高生產(chǎn)質(zhì)量服務(wù)。超純水設(shè)備是專用于生產(chǎn)高純度超純水生產(chǎn)的專業(yè)技術(shù)產(chǎn)品，它的出水水質(zhì)好，電阻率可達18MΩ*cm(25℃)。超純水的水質(zhì)成分單一，除了水分子之外，基本不含有任何有機物、金屬離子、細菌和微生物，是進行芯片清洗的理想用水，需要經(jīng)過該設(shè)備“反滲透+EDI+拋光混床”的技術(shù)處理才能生產(chǎn)出來。

　　超純水設(shè)備采用的這套組合工藝，具有出水連續(xù)、水質(zhì)穩(wěn)定、能耗低、無污染、自動化等優(yōu)勢。反滲透膜常用于進行溶液中各種離子物質(zhì)的過濾，不依賴化學反應(yīng)，可以充分保證水滲透效果。EDI技術(shù)能實現(xiàn)帶電荷運行，使進水時的脫鹽效果得到強化，并且不產(chǎn)生酸堿廢液，具有優(yōu)良的環(huán)保性能。超純水設(shè)備通過利用反滲透膜實現(xiàn)超純水中的雜質(zhì)分離去除，并通過EDI技術(shù)實現(xiàn)超純水高質(zhì)量脫鹽，采用拋光混床技術(shù)保障出水水質(zhì)安全可靠。

　　隨著5G、人工智能、物聯(lián)網(wǎng)等新興產(chǎn)業(yè)的崛起，國內(nèi)市場對半導體產(chǎn)品的需求持續(xù)增長。整體來看，我國半導體行業(yè)正處在快速發(fā)展的上升通道中，前景廣闊，潛力巨大，這意味著超純水設(shè)備的應(yīng)用前景依舊廣闊，投資價值高。

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　　編輯：新奇   技術(shù)：加菲